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低溫plasma與高溫plasma在行業里怎么區分：
低溫plasma與高溫plasma的區別在于離子的溫度和離子通道。低溫等離子體電子運動溫度高達10~10K，而氣體的離子和中性離子溫度接近環境溫度，遠低于電子運動溫度。因此低溫等離子體又被稱為非平衡等離子體。常溫常壓下即可產生低溫等離子體，其工業應用前景廣闊。
測試數據顯示，電源參數對STC一次轉換率影響較大，一定范圍內電源頻率越低，電壓越高，越有利于氯硅烷氫化反應進行。電源頻通過DBD放電方式產生低溫plasma發生器安全可靠、經濟環保且易于實現。在四氯化硅氫化反應中的促進效果，常溫常壓條件下采用plasma輔助，即可實現5%以上的STC一次轉化效率。
plasma包含大量的光子、電子、離子、自由基以及活性原子激發態原子激發態分子和活性分子等，為化學反應提供極活潑的活性粒子，使得許多通常不能發生或者需要極其苛刻的條件才能發生的化學反應，在接近室溫條件下變得容易進行，為化學反應提供了新的實現方法。對于多晶硅化工行業，從能耗控制、效率提升等方面考慮氫化、氣相沉積等工序，運用plasma促進反應進程具有重大的實用價值和科學研究價值。
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