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20年專注等離子清洗機研發生產廠家
半導體等離子蝕刻機在真空環境下的原理優勢: 在光刻技術中，半導體表面會出現殘膠，這就需要一個好的方法進行處理，將殘膠清除的同時不會對產品造成損傷，等離子蝕刻機就是這樣的一個設備...
發布時間:2023-07-17
一、CRF超低溫plasma清潔技術簡述超低溫plasma清理是一種應用廣泛的表面處理工藝，其根據使用帶有活力物種等離子來消除殘渣、有機化合物和二氧化硅等表層污染物質。與傳統持續高溫化學物理清潔方法對比，超低溫plasm...
發布時間:2023-07-12
線路板等離子發生器的應用相當普遍： 在制作印刷線路板的過程中，特別是高密度互連板，需進行孔型金屬化處理，利用金屬化的孔來實現層間的電氣導通。激光孔或機械孔鉆孔經常出現殘余物附...
發布時間:2023-07-07
低溫等離子體清理能夠實現的功能的1種,改善纖維或織物的吸濕、潤濕性： 使用低溫等離子體中處于激發態的各類高能粒子的物理刻蝕和化學反應,或者利用等離子體的接枝、聚合沉積等方式,可在紡織品...
發布時間:2023-06-29
CRF電漿清洗機處理法對聚碳酸酯材料表面改性原理 CRF電漿清洗機對PC聚碳酸酯的表面改性是指利用等離子體與材料表面的相互作用，在表面上形成新的官能團和改變聚合物鏈結構，改善親水性、...
發布時間:2023-06-24CRF plasma 等離子清洗機 版權所有 ?2025
