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CRF plasma 等離子清洗機(jī)

支持材料 測(cè)試、提供設(shè)備 試機(jī)

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FPC真空等離子設(shè)備清洗后產(chǎn)品的及時(shí)性

FPC真空等離子設(shè)備清洗后產(chǎn)品的及時(shí)性:
       FPC真空等離子設(shè)備有常壓和真空等離子清洗設(shè)備。等離子清洗機(jī)的價(jià)格差異。常壓由配套裝配線的槍頭、旋轉(zhuǎn)、直噴槍頭等參數(shù)決定,真空等離子清洗機(jī)以腔體為基礎(chǔ)。
       真空等離子設(shè)備采用氣體做為清潔物質(zhì)。工作的時(shí)候,清潔腔內(nèi)的等離子體輕輕沖洗被清潔物體的表面。短期內(nèi)清洗可完全清洗有機(jī)污染物,污染物被真空泵抽走,清洗水平達(dá)到分子級(jí)。以便校驗(yàn)等離子清洗機(jī)的作用,能通過(guò)SITACI表面清潔度系統(tǒng)測(cè)量RFU值,以RFU值(RelativeFluorescenceUnits)表示清潔度。RFU相對(duì)熒光強(qiáng)度值,RFU零部件表面的殘余污染物含量越大。

真空等離子設(shè)備

       因?yàn)檎婵盏入x子設(shè)備的處理表現(xiàn)在化學(xué)變化和物理變化上。當(dāng)物理變化時(shí),材料表面的改性會(huì)變得粗糙,蝕刻后表面的突起會(huì)增加,表面積也會(huì)增加。如果暴露在受污染的空氣中,與灰塵、油和雜質(zhì)混合,表面會(huì)逐漸減少。當(dāng)化學(xué)變化發(fā)生時(shí),真空等離子設(shè)備會(huì)引入含氧極性基團(tuán),如羥基和羧基。這些活性分子具有及時(shí)性,容易與其他物質(zhì)發(fā)生化學(xué)變化,處理后表面能保留的時(shí)間不容易確定。差異的氣體、功率、處理時(shí)間和放置環(huán)境會(huì)影響材料表面的及時(shí)性。FPC產(chǎn)品清洗后驗(yàn)證的及時(shí)性為:1周(用接觸角測(cè)量數(shù)據(jù)確認(rèn),接觸角值越小,達(dá)因值越大)

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