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20年專注等離子清洗機研發生產廠家
CRF-APO- 500W-XN
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立即咨詢“清洗表層”是大氣等離子清洗機技術的關鍵，簡易地說清洗表層便是在待處理材料的表層打出成千上萬人眼看不到的小孔，同時在表層產生一層新的氧化膜，這樣就可以增大了材料的表面積，間接提升了材料表層的黏附性、相溶性、浸潤性、擴散性等。并且這種特性非常好的運用于手機、電視、微電子技術、半導體材料、汽車等領域，為很多公司解決了很多年未處理的難點。
等離子中加工處理存有著很多的混合氣體分子結構、電子器件和離子外，還存有很多受激發的中性原子、原子團氧自由基及等離子射出去的光束。等離子清潔是充分利用離子、電子器件、受激原子、氧自由基以及射出去的光束與被清潔外表的污染物質分子結構分別出現活化反映而因此將污染物質消除的全過程。
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20年自主研發經驗 500強企業案例 多項技術專利認證
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擁有多名從業十多年的組裝工程師
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設備出廠前連續24小時運行調試
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CRF plasma 等離子清洗機 版權所有 ?2025
