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20年專注等離子清洗機研發生產廠家
低壓電漿清洗機VS常壓plasma清洗機有何不同：一、低壓電漿清洗機數據信號電源電路 低壓電漿清洗機處理產品時，必須監測和控制內腔的真空度、氣壓和2個安全通道的充放電功率。換言之，它...
發布時間:2022-11-08
低溫等離子處理機電離響應氣體可被分解成高活性的成分官能團： 低溫等離子處理機環境有利于產生許多化學反應。氣體種類、流速、壓強、輸入功率等工藝參數決定某一反應能否產生首要輸入工藝參數...
發布時間:2022-11-03
電漿清洗機等離子體絕緣層處理及有機半導體材料的應用：一、絕緣層處理-電漿清洗機等離子體潤滑硅膠表面，提升材料的兼容性 當電漿清洗機設備運行時，電荷首先在半導體與絕緣層的接觸面...
發布時間:2022-10-31
金剛石膜化學沉積通常指等離子沉積實驗： 制備的金剛石膜是1種有著等離子體化學氣相積累能力的工藝。由于薄膜金剛石在超硬維護涂層、光窗口、熱沉數據、微電子等方面也起著至關重要的作用...
發布時間:2022-10-27DBD是寬幅等離子設備產生等離子的原理？ 介質阻擋放電簡稱DBD，就是將絕緣介質放在2個金屬電極中間，以阻撓橫穿極板間空氣間隙的放電通道，使空氣間隙通道內的放電不會造成電弧，而是以細...
發布時間:2022-10-26CRF plasma 等離子清洗機 版權所有 ?2025
