誠峰plasam射頻電源等離子體與催化相互影響研究進(jìn)展：
       作為一種有效的分子活化技術(shù)手段，低溫誠峰plasam與催化的交叉研究日益緊密二者的結(jié)合方式主要表現(xiàn)在制備催化和催化增強(qiáng)等離子體化學(xué)反應(yīng)兩個方面。等離子射頻電源等離子體是由多種粒子組成的復(fù)雜體系催化大多為吸附了金屬活性組分的多孔介質(zhì)，當(dāng)催化與plasam接觸時相互之間會產(chǎn)生一定影響。通過改變催化的物化性質(zhì)等，可以使離子體系中顆粒類型及濃度產(chǎn)生變化，進(jìn)而提升催化活性和可靠性，推動等離子體化學(xué)反應(yīng)。

       催化經(jīng)過誠峰plasam表面處理，催化活性明顯增加。此文詳盡匯總了等離子射頻電源plasma體處理過程中，plasma與催化的相互影響。plasma不僅影響活性組分的粒徑、形狀和催化的酸度而且具有一定的還原性另一方面催化也能改變等離子體的電子溫度、電子濃度和形貌。
    誠峰plasam增強(qiáng)制備催化，它是在常規(guī)催化高溫焙燒之前，利用等離子體對催化進(jìn)行表面處理和修飾提升了催化的反應(yīng)活性。催化在化學(xué)生產(chǎn)中起著重要作用，特別是大多數(shù)化學(xué)反應(yīng)需要催化的參與才能順利開展。催化劑的活性組分的分散水平、化學(xué)狀態(tài)、表層成分及與載體之間的相互作用直接影響著催化劑的活性、選擇性和可靠性。