解讀誠峰智造關(guān)于plasma清洗設(shè)備表層工藝處理性能：
        crf誠峰智造plasma清洗設(shè)備可以和各種不同的后續(xù)制作工藝相配合，其中為典型的后續(xù)加工包括包裝印刷，粘合，噴涂。crf誠峰智造plasma清洗設(shè)備適用多種行業(yè)的制造業(yè)使用，能為差異材料或者復(fù)合材料給予后續(xù)的粘合，噴涂，包裝印刷前處理，使2種差異材料有效而又可靠的融為一體。plasma清洗設(shè)備清洗活化和涂層專用在數(shù)碼行業(yè)中主要為粘合、噴涂、濺鍍等工序給予前處理。

       crf誠峰智造plasma清洗設(shè)備在電子產(chǎn)品中使用多的目標(biāo)是手機(jī)外殼、手機(jī)按鍵、筆記本電腦外殼、筆記本鍵盤、塑膠產(chǎn)品等。廣泛地使用原材料有聚乙烯，聚丙烯，聚氯乙烯，聚酯，聚甲醛，聚四氟乙烯，乙烯基，尼龍，(硅)橡膠，有機(jī)玻璃，ABS等塑料的包裝印刷，涂覆和粘合等工序的表層預(yù)處理。而這些素材的形狀、寬度、高度、材料類型、工序類型、是否需要在線處理都直接影響和決定了整個表面處理設(shè)備的解決方案，plasma清洗設(shè)備的主要特點(diǎn)：
    1. 均勻度高：大氣壓plasma清洗設(shè)備是輝光式的等離子幕，直接作用于材料表層，實驗證明，同一材料差異位置的處理均勻性很高，這一性能相對于制造業(yè)行業(yè)進(jìn)行下一環(huán)節(jié)的邦定、涂膜、包裝印刷等制程十分重要。
    2. 效果可控：大氣壓等離子有三種效果模式可選。一是選用氬氣/氧氣組合，主要面向非金屬材料并且要求較高的處理效果時采用。二是選用氬氣/氮?dú)?組合，主要面向待處理產(chǎn)品有不能被處理的金屬區(qū)域，因氧氣的強(qiáng)氧化作用，替換為此方案中的氮?dú)夂螅搯栴}可以加以控制。三是只采用氬氣的情況，只采用氬氣也可以實現(xiàn)表層改性，但是效果相對較低。此種情況較特殊，是少數(shù)制造業(yè)客戶需要有限度的同時均勻的表層改性時采用的方案。
    3. 安全可靠穩(wěn)定：大氣壓式等離子，也是低溫等離子，并不會對材料表層帶來損傷。無電弧，無需真空腔體，也無需有害氣體吸出系統(tǒng)，長時間使用并不會對操控員工帶來身體損害。